Optik för dynamiskt skanningsoptiskt system: 1st liten fokuslins、1-2st fokuslins、Galvo-spegel. Hela den optiska linsen bildar en funktion av strålexpansion, fokusering och strålavböjning och skanning.
Den expanderande delen är en negativ lins, dvs liten fokuslins, som realiserar strålexpansion och rörlig zoom, fokuseringslinsen är sammansatt av en grupp positiva linser. Galvospegeln är spegel i galvanometersystemet.
(1) Optimering av linsdesign: Optimalt förhållande mellan diameter och tjocklek
(2) Hög skadetröskel för objektiv:>30J/cm2 10ns
(3) Beläggning med ultralåg absorption, absorptionshastighet: <20 ppm
(4) Förhållande mellan galvanometertjocklek och diameter: 1:35
(5) Linsens ytnoggrannhet:<= λ/5
Post-objektiv lins
| Max ingångspupill (mm) | Optik 1 Diameter (mm) | Optik 2 Diameter (mm) | Optik 3 Diameter (mm) | Skanna fält (mm) | Rensa bländare av skanner (mm) | Våglängd |
| 8 | 15 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 10,6 um |
| 12 | 22 | 55 | 55 | 1600x1600 | 30 | |
| 8 | 16 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 1030-1090nm |
| 8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 532nm |
| 8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 355 nm |
Reflektor Spegel
| Delbeskrivning | Diameter (mm) | Tjocklek (mm) | Material | Beläggning |
| Silikonreflektor | 25.4 | 3 | Kisel | HR@10.6um,AOI: 45° |
| Silikonreflektor | 30 | 4 | Kisel | HR@10.6um,AOI: 45° |
| Fiberreflektor | 25.4 | 6,35 | Fused Silica | HR@1030-1090nm, AOI: 45° |
| Fiberreflektor | 30 | 5 | Fused Silica | HR@1030-1090nm, AOI: 45° |
| Fiberreflektor | 50 | 10 | Fused Silica | HR@1030-1090nm, AOI: 45° |
| 532 Reflektor | 25.4 | 6 | Fused Silica | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
| 532 Reflektor | 25.4 | 6,35 | Fused Silica | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
| 532 Reflektor | 30 | 5 | Fused Silica | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
| 532 Reflektor | 50 | 10 | Fused Silica | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
| 355 Reflektor | 25.4 | 6 | Fused Silica | HR@355nm&433nm, AOI: 45° |
| 355 Reflektor | 25.4 | 6,35 | Fused Silica | HR@355nm&433nm, AOI: 45° |
| 355 Reflektor | 25.4 | 10 | Fused Silica | HR@355nm&433nm, AOI: 45° |
| 355 Reflektor | 30 | 5 | Fused Silica | HR@355nm&433nm, AOI: 45° |
Galvo spegel
| Delbeskrivning | Max ingångspupill (mm) | Material | Beläggning | Våglängd |
| 55mmL*35mmW*3.5mmT-X 62mmL*43mmW*3,5mmT-Y | 30 | Kisel | MMR@10.6um | 10,6 um |
| 55mmL*35mmW*3.5mmT-X 62mmL*43mmW*3,5mmT-Y | 30 | Fused Silica | HR@1030-1090nm | 1030-1090nm |
| 55mmL*35mmW*3.5mmT-X 62mmL*43mmW*3,5mmT-Y | 30 | Fused Silica | HR@532nm | 532nm |
| 55mmL*35mmW*3.5mmT-X 62mmL*43mmW*3,5mmT-Y | 30 | Fused Silica | HR@355nm | 355 nm |
Skyddslins
| Diameter (mm) | Tjocklek (mm) | Material | Beläggning |
| 75 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 80 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90x60 | 5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90x64 | 2.5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90x70 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
